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    產品介紹

    FT- 300H
    12英寸HTM PECVD設備 

    產品介紹

    FT-300H系列是我公司自主研發的原子層沉積(Atomic Layer Deposition)設備,ALD反應腔搭載在高產能的PECVD平臺上,滿足了對設備產能的需求,現已應用於先進的芯片製造及先進封裝(TSV)領域,同時針對14nm以下前道工藝(FEOL)進行研製開發。現可提供具有高質量的PEALD,如SiO2、SiN薄膜,並陸續開發金屬氧化物及金屬氮化物等薄膜工藝。



     
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