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FT- 300T
12英寸ALD設備

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FT-300T系列是我公司自主研發的原子層沉積（Atomic Layer Deposition）設備，ALD反應腔搭載在高產能的PECVD平臺上，滿足了對設備產能的需求，現已應用於先進的芯片製造及先進封裝（TSV）領域，同時針對14nm以下前道工藝（FEOL）進行研製開發。現可提供具有高質量的PEALD，如SiO2、SiN薄膜，並陸續開發金屬氧化物及金屬氮化物等薄膜工藝。