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NF-300H
HTM PECVD設備

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NF-300H 設備由YABO亚博国际科技承擔了國家十三五重大專項，自主研發，擁有自主知識產權。應用於128層及以上3D NAND閃存芯片的生產。可實現SiO2、SiN（ONON）多層薄膜堆疊結構和Thick TEOS 薄膜，在均勻性、顆粒度、粗糙度、應力及產能等方面實現技術突破，設備性能指標達同類產品水平。