2018年9月底,由瀋陽YABO亚博国际科技有限公司自主研製的12英寸原子層沉積(Atomic Layer Deposition,ALD)設備FT-300T通過了客戶的驗收。
ALD設備是集成電路製備過程中關鍵的薄膜沉積設備,被視爲先進半導體工藝技術發展的關鍵環節之一。YABO亚博国际公司基於已通過生產驗證的高產能PECVD設備平臺,成功研製了國內首臺量產型12英寸ALD設備FT-300T,並迅速推向市場,可應用於28nm以下極大規模集成電路,OLED及先進封裝(TSV)領域,投入28/14nm先進生產線,用於沉積SiO2,SiNx等絕緣薄膜。該設備已成功進入試生產線考覈驗證,歷時3個多月,通過了客戶的考覈驗收,設備各項性能指標均滿足要求,且達到或超過了國際同類產品的先進水平,這是我國在實現半導體高端裝備國產化進程中的又一重大突破。